复旦大学半导体研发取得重要突破

发布时间:2024-6-26 15:11    发布者:eechina
关键词: 复旦大学 , 半导体
来源:复旦大学芯片院

近日,在2024年超大规模集成电路国际研讨会上,复旦大学芯片与系统前沿技术研究院的刘明院士团队在会上展示了铪基铁电器件可靠性方面的最新研究进展。

基于HfxZr1-xO2材料的铁电存储器(FeRAM)由于其高速、良好的可微缩性和CMOS工艺兼容性,受到了广泛关注。然而,器件的可靠性是影响其大规模应用的关键问题之一。

在程序代码存储以及人工智能网络(AI)推理等以读操作为主的应用中,铁电电容既不会像在传统耐久性测试中一样被频繁擦写,也不会像在传统保持性测试中一样长时间维持在同一极化状态。因此,器件在这些应用场景下的可靠性失效规律及背后的物理机制值得深入的研究。

针对上述问题,团队首先提出了一种包含不同脉冲占空比的耐久性(duty cycling)测试方法。研究发现,在电学测试过程中,随着占空比的减小,极化强度(Psw)损失和翻转电压(Vc)偏移程度加剧,最终使得器件更快失效。在此基础上,研究人员建立了包含氧空位缺陷动力学和Preisach极化翻转机制的铁电器件三维物理模型,揭示了duty cycling背后由电场及浓度驱动下氧空位重新分布主导的失效机制。

最后,团队针对性地提出了利用超晶格结构以及Hf:Zr比例调控,抑制电学刺激下的氧缺陷生成,成功缓解了上述失效行为,并实现了在128Kb铪基FeRAM芯片上的验证,推动了铪基铁电存储技术的更广泛应用。
本文地址:https://www.eechina.com/thread-861882-1-1.html     【打印本页】

本站部分文章为转载或网友发布,目的在于传递和分享信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责;文章版权归原作者及原出处所有,如涉及作品内容、版权和其它问题,我们将根据著作权人的要求,第一时间更正或删除。
您需要登录后才可以发表评论 登录 | 立即注册

厂商推荐

  • Microchip视频专区
  • 安静高效的电机控制——这才是正确的方向!
  • 为何选择集成电平转换?
  • 5分钟详解定时器/计数器E和波形扩展!
  • 无线充电基础知识及应用培训教程3
  • 贸泽电子(Mouser)专区

相关视频

关于我们  -  服务条款  -  使用指南  -  站点地图  -  友情链接  -  联系我们
电子工程网 © 版权所有   京ICP备16069177号 | 京公网安备11010502021702
快速回复 返回顶部 返回列表