MEMS压力传感器及其应用
发布时间:2009-6-21 16:33
发布者:李宽
MEMS(微机电系统)是指集微型传感器、执行器以及信号处理和控制电路、接口电路、通信和电源于一体的微型机电系统。 MEMS压力传感器可以用类似集成电路(IC)设计技术和制造工艺,进行高精度、低成本的大批量生产,从而为消费电子和工业过程控制产品用低廉的成本大量使用MEMS传感器打开方便之门,使压力控制变得简单易用和智能化。传统的机械量压力传感器是基于金属弹性体受力变形,由机械量弹性变形到电量转换输出,因此它不可能如MEMS压力传感器那样做得像IC那么微小,成本也远远高于MEMS压力传感器。相对于传统的机械量传感器,MEMS压力传感器的尺寸更小,最大的不超过1cm,使性价比相对于传统“机械”制造技术大幅度提高。 MEMS压力传感器原理 目前的MEMS压力传感器有硅压阻式压力传感器和硅电容式压力传感器,两者都是在硅片上生成的微机电传感器。 ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() 典型的MEMS压力传感器管芯(die)结构和电原理如图7所示,左是电原理图,即由电阻应变片组成的惠斯顿电桥,右是管芯内部结构图。典型的MEMS压力传感器管芯可以用来生产各种压力传感器产品,如图8所示。MEMS压力传感器管芯可以与仪表放大器和ADC管芯封装在一个封装内(MCM),使产品设计师很容易使用这个高度集成的产品设计最终产品。 ![]() ![]() ![]() ![]() 与传统IC行业注重二维静止的电路设计不同,MEMS以理论力学为基础,结合电路知识设计三维动态产品,对于在微米尺度进行机械设计会更多地依靠经验,设计开发工具(Ansys)也与传统IC(如EDA)不同,MEMS加工除使用大量传统IC工艺,还需要一些特殊工艺,如双面刻蚀,双面光刻等。MEMS较传统IC工艺简单,光刻步骤少,MEMS生产有一些非标准的特殊工艺,工艺参数需按产品要求进行调整,由于需要产品设计、工艺设计和生产三方面的密切配合,IDM的模式要优于Fabless+Foundry(无芯片生产线公司+代工厂)的模式。MEMS对封装技术的要求很高。传统半导体厂商的4英寸生产线正面临淘汰,即使用来生产LDO也只有非常低的利润,如转而生产MEMS则可获较高的利润;4英寸线上的每一个圆晶片可生产合格的MEMS压力传感器Die 5~6千个,每个出售后可获成本7~10倍的毛利(图10);转产MEMS改动工艺不大、新增辅助设备有限,投资少、效益高;MEMS芯片与IC芯片整合封装是IC技术发展的新趋势,也是传统IC厂商的新机遇。图11是MEMS在4英寸圆晶片生产线上。 ![]() |
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