台积电对外开放16nm FinFET技术:推动全球半导体发展

发布时间:2023-2-6 09:18    发布者:eechina
关键词: 台积电 , 16nm , FinFET , 半导体
来源:快科技

据悉,台积电官网宣布推出大学FinFET专案,目的在于培育未来半导体芯片设计人才并推动全球学术创新。

此专案开放大学院校师生与学术研究人员使用业界最成功的鳍式场效应晶体管(FinFET)技术之制程设计套件 (PDK),将其芯片设计学习经验提升至先进的 16nm FinFET 技术。

按照官方的描述来看,这次开放的技术,是以台积电N16制程为主的教学用设计套件,包括教育设计案例、训练资料、以及教学影片,引领学生从传统平面式晶体管结构进入到鳍式场效应晶体管结构。

针对具有影响力的研究项目,包括应用于逻辑、类比与射频的研究设计,台积电提供N16和N7制程设计相关套件,支持通过MPW服务生产的测试芯片。

据悉,台积电设计生态系统服务伙伴已准备就绪和参与大学FinFET专案的学者建立联系。
本文地址:https://www.eechina.com/thread-810032-1-1.html     【打印本页】

本站部分文章为转载或网友发布,目的在于传递和分享信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责;文章版权归原作者及原出处所有,如涉及作品内容、版权和其它问题,我们将根据著作权人的要求,第一时间更正或删除。
您需要登录后才可以发表评论 登录 | 立即注册

厂商推荐

相关视频

关于我们  -  服务条款  -  使用指南  -  站点地图  -  友情链接  -  联系我们
电子工程网 © 版权所有   京ICP备16069177号 | 京公网安备11010502021702
快速回复 返回顶部 返回列表