复旦大学先进光刻胶材料教育部工程研究中心揭牌成立 聚力攻关“卡脖子”技术
发布时间：2025-4-25 10:04
发布者：eechina
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4月23日，复旦大学先进光刻胶材料教育部工程研究中心（以下简称“中心”）正式揭牌成立。来自学术界、产业界的二十余位专家学者齐聚一堂，共同见证这一国家战略科技力量的诞生。该中心聚焦半导体产业核心材料——高端光刻胶的研发与产业化，旨在通过产学研深度融合，突破“从实验室到生产线”的技术瓶颈，为我国集成电路产业迈向全球价值链高端提供关键支撑。 聚焦国家战略需求，构建多学科交叉创新平台 在揭牌仪式上，复旦大学副校长姜育刚表示，光刻胶作为芯片制造的“血液”，其技术水平直接决定集成电路的工艺精度与产业竞争力。然而，我国高端光刻胶市场长期被日美企业垄断，国产化率不足5%，严重制约芯片制造自主可控进程。此次成立的工程研究中心整合了复旦大学微电子学院、化学系、高分子科学系及材料科学系的多学科优势，并联合上海华力集成电路制造有限公司、苏州润邦半导体等产业链龙头企业，形成“基础研究-工程化开发-产业应用”的全链条创新体系。 中心主任伍强教授在专题报告中提出“设计-基础设施协同优化（DICO）”技术路线，即通过AI算法优化光刻胶分子结构与光刻工艺参数的匹配性，结合量子化学模拟提升材料稳定性，最终实现14nm及以下先进制程光刻胶的工程化量产。这一路线已在实际案例中取得突破：通过引入AI驱动的分子动力学模拟，某型号ArF光刻胶的分辨率从45nm提升至28nm，工艺窗口扩大30%。 产业界领军专家领衔技术委员会，模块化研发加速技术迭代 为确保技术攻关与产业需求精准对接，中心组建了由17位行业领军专家构成的技术委员会。其中，上海华力集成电路制造有限公司首席技术官周文湛担任主任，苏州润邦半导体CTO马晓明、浙江新盈电子首席科学家方书农任副主任。技术委员会提出“模块化研发与优化”策略，将光刻胶配方设计、光刻工艺适配、缺陷控制等环节拆解为独立模块，通过AI驱动的并行实验平台加速迭代。 周文湛在发言中透露，中心已与腾讯量子实验室、张江国家实验室达成合作，将量子计算应用于光刻胶分子设计，预期可将研发周期从传统方法的3-5年缩短至18个月。此外，针对EUV光刻胶研发中的关键难题——金属离子污染控制，中心联合华力微电子开发出新型螯合剂，使金属离子残留量从10ppm降至0.5ppm以下，达到国际领先水平。 产教融合培养复合型人才，百亿级市场空间待开拓 揭牌仪式后，与会专家围绕“光刻材料与工艺人才培养”展开专题研讨。复旦大学研究生院副院长梅永丰宣布，中心将增设“微纳制造材料与工艺”微专业，联合企业开设“光刻胶工程化开发实践”课程，学生需完成6个月以上产业基地实习方可毕业。苏州润邦半导体已承诺每年提供20个实习岗位，并设立“光刻胶创新奖学金”，用于奖励在材料合成、光刻工艺优化等领域取得突破的学生团队。 据市场研究机构预测，到2027年，全球高端光刻胶市场规模将突破120亿美元，其中中国市场需求占比将达35%。中心副主任马晓明指出，国产光刻胶若能实现28nm制程全覆盖，预计可带动国内芯片制造企业成本下降18%-22%，并推动5G通信、人工智能、智能汽车等领域的国产替代进程。 开放协同打造创新生态，助力上海全球科创中心建设 作为复旦大学“新工科”建设的重要载体，该中心与已成立的复旦大学材料科学智能研究中心、复旦大学-陶氏功能材料联合实验室形成协同效应。据统计，复旦大学在先进材料领域已承担国家级科研项目42项，近三年在《自然》《科学》等顶刊发表光刻胶相关论文17篇，申请核心专利68项。 上海市科委相关负责人表示，中心的建设将强化上海在半导体材料领域的创新策源能力。未来三年，上海计划投入15亿元支持光刻胶产业生态建设，包括建设国家级光刻胶检测认证平台、组建光刻胶产业创新联盟等。随着学敏高等研究院（获校友捐赠10亿元）、空间互联网研究院等机构的相继落地，复旦大学正加速向全球顶尖研究型创新型大学迈进。 结语 从实验室到生产线，从分子设计到晶圆良率，复旦大学先进光刻胶材料教育部工程研究中心的成立，标志着我国在半导体材料领域迈出关键一步。随着产学研协同创新的深入推进，中国有望在3-5年内突破高端光刻胶的自主化瓶颈，为全球半导体产业链注入新的变量。正如姜育刚副校长所言：“在复旦大学建校120周年之际，我们要以‘板凳甘坐十年冷’的定力，为科技自立自强写下属于这一代人的注脚。” |
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