自主研发 南大光电国产高端光刻胶通过认证 已经用于50nm工艺
发布时间：2023-4-11 09:04
发布者：eechina
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来源：快科技 4月10日消息，南大广电在互动平台表示，该公司自主研发的高端ArF光刻胶已经通过了客户认证，并少量销售。 南大光电表示，公司已有两款ArF光刻胶产品分别在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点上通过认证，并实现少量销售。 现阶段验证工作正在稳步推进，且针对同一客户开发了不同的产品，以满足客户的多样化需求。 此前该公司指出，公司已建成年产5吨ArF干式光刻胶生产线、年产20吨ArF浸没式光刻胶生产线及年产45吨的光刻胶配套高纯试剂生产线，具备ArF光刻胶及配套关键组分材料的生产能力，目前公司送样验证的产品均由该自建产线产出。 2022 年，南大光电公司实现营业收入158,123.07万元，同比增长60.62%；归属于上市公司股东的净利润18,673.26 万元，同比增37.07%；归属于上市公司股东的扣除非经常性损益后的净利润12,562.52万元，同比增长78.39%。 |
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