阿斯麦尖端光刻机在英特尔正式投产
发布时间：2025-2-25 09:26
发布者：eechina
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据路透社报道，英特尔于2月24日宣布，来自荷兰半导体设备制造商阿斯麦（ASML）的前两台高数值孔径（High NA）极紫外光刻机（EUV）已在其位于加利福尼亚州圣何塞的工厂正式投入生产。 英特尔高级首席工程师史蒂夫·卡尔森（Steve Carson）在加州圣何塞举行的一场会议上表示，英特尔已利用阿斯麦的高数值孔径光刻机在一个季度内生产了3万片晶圆，这些晶圆可以产出数千颗计算芯片。卡尔森指出，初步测试显示，阿斯麦新光刻机的可靠性是此前型号的大约两倍，这为制造平台带来了巨大的福音。 High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的光刻机，能够比之前的光刻机生产出更小、更快的计算芯片。该技术的应用不仅标志着英特尔在半导体制造领域的重大突破，也预示着下一代计算芯片的出现，这些芯片将比以往更加小型化且性能更强。 英特尔计划利用这些尖端设备生产1.8nm以下的先进制程芯片，以满足市场对高性能计算需求的不断增长。随着High NA EUV光刻机的逐步普及和应用，预计将在2025-2026年期间迎来大规模的量产应用。 |
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