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2022上海国际光刻设备与光掩膜应用技术展览会

发布时间:2022-3-29 16:24    发布者:cwzl
日期:2022-11-14
地点:上海新国际博览中心
网址:
2022上海国际光刻设备与光掩膜应用技术展览会
Shanghai lithography equipment and photomask Application Technology Exhibition
基本信息 〓
时间:20221114-16日                地点:上海新国际博览中心
TimeNovember 14-16.2022       Venue:Shanghai New International Expo Centre
展会前言 〓
电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力,21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。光刻技术从诞生以来,半导体加工制造行业中,作为图形转移技术而广为应用。随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小以及器件功能的不断提高,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化。
随着集成电路产业的发展,高端芯片的集成度达到了数千乃至数亿晶体管,推动芯片封装技术向更高密度、更高性能发展,在传统的接近/接触式光刻机日趋无法满足高性能、高密度、低成本的先进封装工艺发展需求的情况下,先进的大视场、大焦深、高精度投影光刻机逐步成为先进封装生产线的关键设备。“2022上海国际光刻设备与光掩膜应用技术展览会”将于1114-16日在上海新国际博览中心隆重举办,欢迎广大相关单位参展、参观!
展商受益 〓
1、 收集最新的高质量销售资讯,结识高质量买家并达成销售交易。
2、 了解未来生产需求发展全球战略。
3、 与全国代理、经销商构建销售网络。
4、 通过与各地生产商和买家的合作来发掘新的商业机会。
5、 加强公司品牌建设,提高公司的行业知名度。
6、 获得关于最新市场趋势、技术创新、行业最新发展动态以及的相关行业资讯。
为何参展 〓
预计30,000余专业人次来自光刻设备全产业链的专业买家将莅临现场
预计面积达30000平方米,500余家行业企业同期展示,共赴行业盛会
35家合作机构组团参观
形式多样的配套会议及活动,涵盖组团参观、、论坛、访谈
全方位海内外渠道营销,线上与线下共同造势
超过300家行业媒体,提供全天候,一站式营销解决方案
稳固老客户,开拓新市场,发现新机遇
目标观众 〓
邀请全国、省、市、各相关科研单位:电子、微电子、光电子、集成电路、半导体、微/纳电机系统、芯片制造、生物器件、纳米科技、平板显示、IC制造、光伏、航空航天、国防军工、ICTPLEDLCD、分立器件、太阳能、印刷、影像等制造业、大学、研究所、咨询机构和公共机构的专家代表等人员到会参观、洽谈。
日程安排 〓
布展时间:20221112- 13日          AM8:30-PM19:30
展览时间:20221114日              AM9:30-PM16:45
          20221115日              AM9:30-PM16:30
撤展时间:20221116日            PM14:00-24:00
参展范围 〓
◆曝光光源、光学系统、电系统、机械系统和控制系统等;
◆光刻机、光刻技术、步进投影光刻机、扫描投影光刻机、纳米光刻技术、无掩模光刻技术、沉浸式光刻技术、准分子激光光刻技术、极紫外光刻机、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、STM光刻、纳米压印光刻技术、微光刻技术、电子束曝光机、离子束曝光、3D 打印、刻蚀机、光刻机零部件、光刻前处理材料、曝光系统、光刻-掩模无机芯片与加工系统、光源与光刻胶、光刻胶原材料、光刻胶涂覆与处理设备等;
◆光掩膜、铬版、干版,凸版、液体凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜图形描绘设备、光掩模测试等;
联系我们 〓
联系人Contact:李先生
Mobile150 0190 9485(同微信)
Emailsales1@ufiexpo.com
本文地址:https://www.eechina.com/thread-786424-1-1.html     【打印本页】

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