SK海力士发布全球首款321层1Tb NAND闪存UFS 4.1解决方案

发布时间:2025-5-22 10:30    发布者:eechina
关键词: SK海力士 , NAND , 闪存 , UFS4.1
SK海力士今日正式宣布,成功研发出搭载全球最高​​321层1Tb(太比特,Terabit)TLC(Triple Level Cell)4D NAND闪存​​的移动端解决方案产品UFS 4.1。该产品以革命性技术创新突破行业瓶颈,重新定义高性能、低功耗与轻薄设计的完美平衡,为智能手机端侧AI(On-device AI)应用提供强大支持,并巩固SK海力士在旗舰移动存储市场的领导地位。

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​​AI时代赋能:性能与低功耗兼得​​

随着端侧AI技术的快速发展,用户对移动设备的计算性能与续航能力提出更高要求。SK海力士此次推出的UFS 4.1产品专为优化AI工作负载设计,搭载的321层NAND闪存通过优化存储单元结构与数据传输机制,实现了​​能效7%提升​​,为智能手机提供更持久的续航表现。同时,其厚度缩减至​​仅0.85mm​​,较上一代产品减薄15%,完美适配超薄智能手机设计需求,为设备形态创新预留空间。

​​性能领跑行业:速度与容量全面升级​​

在数据传输层面,该UFS 4.1产品支持​​顺序读取峰值速率达4300MB/s​​,可快速加载大型AI模型与媒体文件。其随机读取和写入速度较上一代分别提升​​15%和40%​​,在多任务处理、大型游戏启动及高分辨率图像与视频处理等场景中表现卓越,综合性能位居全球UFS 4.1解决方案首位。

容量方面,新品提供​​512GB与1TB双版本​​选择,满足从普通用户到大容量需求者的多种场景需求,进一步推动本地存储从“云端依赖”向“边缘计算”的转变,助力端侧AI实时响应与隐私保护。

​​技术突破:321层工艺定义行业新标杆​​

此次发布的解决方案基于全球首款​​321层4D NAND闪存​​(1Tb容量),标志着SK海力士在存储芯片制程与堆叠技术领域取得重大跃进。通过优化垂直堆叠技术与电路设计,该产品在单位面积内实现更高存储密度,同时降低能耗与发热,为未来智能手机向更高性能、更轻薄、更智能的方向演进提供坚实基础。

​​量产计划稳步推进​​

SK海力士计划于202X年底向客户交付样品进行验证测试,并将于​​202X年第一季度正式量产​​。公司高层表示:“UFS 4.1解决方案的推出,不仅展现了我们在NAND技术创新上的领先性,更体现了对未来AI终端生态的深度布局。我们期待携手合作伙伴,加速端侧AI应用的普及,为用户带来更高效、更智能的移动体验。”
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