Aigtek高压放大器在液晶显示图像残留研究中的应用

发布时间:2025-3-25 10:42    发布者:aigtek01
关键词: 高压放大器
  实验名称:纳米粒子掺杂对响应时间的影响
  测试设备:高压放大器信号发生器示波器、热台控制器、衰减器、探测器等。
  实验过程:

  图1:VAN盒响应时间的测量装置
  响应时间也是影响液晶显示图像残留的重要参数,响应时间越短越不容易产生图像残留。实验中测量响应时间的装置如图1所示,光源为632.8nm的红色激光,光源经过衰减器、可调光阑、偏振片和λ/4波片后成圆偏振光,经过起偏器后成线偏振光,起偏器与检偏器的光轴方向成90°,热台控制液晶盒的温度为28°C。信号发生器输出1kHzAC方波信号和DC信号的组合波形,组合波形的周期为2s,经高压放大器放大后施加在液晶盒上。当电压超过液晶盒阈值电压后,探测器会检测到光强的变化并传输到示波器上,通过示波器可以观察到液晶的动态响应过程。
  实验结果:

  图2:不同掺杂浓度γ-Fe2O3纳米粒子与负性LC混合物在VAN盒中的下降和上升时间

  图3:不同掺杂浓度与响应时间的关系(a)归一化透过率与下降时间的关系;(b)归一化透过率与上升时间的关系;(c)下降时间与掺杂浓度的关系;(d)上升时间与掺杂浓度的关系
  实验测得的不同掺杂γ-Fe2O3纳米粒子浓度对响应时间的影响如图2所示,由图可知纳米粒子掺杂对响应时间有一定的影响。图3(a)和图3(b)分别给出了下降时间和上升时间的放大图,其中下降时间为去电压过程,上升时间为加电压过程;由图3(c)和图3(d)可以看出上升时间和下降时间均随掺杂浓度的增加先降低后升高,并在掺杂浓度为0.034wt%时达到最低值,在掺杂浓度为0.034wt%时,下降时间可以缩短8.11%,上升时间可以缩短15.49%。SRDCV与响应时间随γ-Fe2O3纳米粒子掺杂变化规律一致,说明γ-Fe2O3纳米粒子的掺杂有效改善了VAN显示模式的图像残留现象。
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  图:ATA-7015高压放大器指标参数
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