新思科技公布1.6纳米背面布线项目,引领万亿晶体管芯片新纪元
发布时间:2024-9-29 15:05
发布者:eechina
全球领先的电子设计自动化(EDA)解决方案提供商新思科技(Synopsys)近日正式公布了其1.6纳米背面电源布线项目,这一项目将对未来万亿晶体管芯片的设计和生产产生深远影响。 据了解,新思科技与台积电正在紧密合作,共同开发支持台积电A16 1.6纳米工艺的背面布线功能。该技术旨在解决万亿晶体管设计面临的电源分配和信号布线难题,确保芯片在极小的尺寸下仍能保持高效的性能输出。尽管名称上仍保留“纳米”单位,但台积电将其命名为A16,即16埃米,这一比纳米更小的单位实际上反映了技术难度的大幅提升。 A16 1.6纳米工艺采用创新的背侧电源轨方案,该方案能够分离电源线与讯号线的配置,有效缓解晶圆正面的拥塞问题,从而推动逻辑芯片的持续微缩。同时,背侧电源轨方案还能显著增强供电效能,提升系统性能。据估算,相比于当前先进的N2P工艺,A16技术能在相同条件下提供高达8-10%的速度提升,并在相同速度下降低15-20%的功率消耗,最终实现芯片密度的显著提升。 为了应对日益复杂的物理验证规则,新思科技还推出了互操作工艺设计工具包(iPDK)和IC Validator物理验证运行集。这些工具将帮助设计团队高效地将设计过渡到台积电N2 2纳米技术,为万亿晶体管芯片的成功研发提供有力支持。 |
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