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化学镍金工艺探讨(1)

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发表于 2013-4-23 14:33:59 | 显示全部楼层 |阅读模式
化学镍金工艺探讨(1)
化学镍金镀层集可焊接、可接触导通,可打线、可散热等功能于一身,是PCB板面单一处理却具有多用途的湿制程。目前尚无其它的工艺可与之抗衡。但该制程不好做已时日已久,问题常常出现且不易重工,问题的解决须从源头开始。对此,本人将工作过程中遇到的品质问题同业界前辈探讨一下。
  首先从化学镍金的反应机理入手。
  一、 化镍
    镍盐:以硫酸镍为主,也有氯化镍、乙酸镍
    还原剂:次磷酸二氢钠,NaH2PO2
    反应机理:
      说明:次磷酸二氢钠的次磷酸根离子水解并氧化成磷酸根,同时放出两个活性氢原子吸附在铜底钯面上。
         镍离子在活化钯面上迅速还原镀出镍金属。
         小部分次磷酸根在催化氢的刺激下,产生磷原子并沉积在镍层中。
         部分次磷酸根在催化环境下,自己也会氧化并生成氢气从镍面上向外冒出。
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发表于 2013-4-29 09:32:26 | 显示全部楼层
受教育了!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!
谢谢.jpg
发表于 2015-2-4 12:22:25 | 显示全部楼层
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