Cadence数字和定制/模拟设计流程获得台积电N3E 和N2工艺技术认证
发布时间：2023-5-10 09:36
发布者：eechina
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来源：TechWeb 楷登电子（美国 Cadence 公司）近日宣布，Cadence 数字和定制/模拟设计流程已通过台积电（TSMC）N3E 和 N2 先进工艺的设计规则手册（DRM）认证。两家公司还发布了相应的 N3E 和 N2 制程设计套件（PDK），以加快在上述节点的移动、人工智能和超大规模计算的 IC 设计创新。客户已开始积极使用这些新的工艺节点和经过认证的 Cadence® 流程来实现功率、性能和面积（PPA）目标，简化模拟迁移过程，并缩短上市时间。 Cadence 和 TSMC 紧密合作，确保其完整的 RTL-to-GDS 流程符合 TSMC 的 N3E 和 N2 节点要求，其中包括 Innovus™ Implementation System、Quantus™ Extraction Solution 和 Quantus Field Solver、Tempus™ Timing Signoff Solution 和 ECO Option、Pegasus™ Verification System、Liberate™ Characterization Portfolio、Voltus™ IC Power Integrity Solution 以及 Voltus-Fi Custom Power Integrity Solution。Genus™ Synthesis Solution 结合预测性质的 iSpatial 技术也支持最新的 N3E 和 N2 技术。 完整的 Cadence 数字实现和签核流程支持一系列新的设计特征，包括为了在 N3E 节点上实现最佳 PPA 结果，从综合到签核工程变更命令（ECO）都可以使用原生的混合单元行优化技术；以及对单元引脚对齐和连接的支持。该流程可供客户快速采用，以便他们体验最新的 TSMC N3E 和 N2 工艺技术所带来的优势。 Cadence Virtuoso® Studio，包括 Virtuoso Schematic Editor、Virtuoso ADE Suite 和 Virtuoso Layout Suite，以及 Spectre® Simulation Platform，包括 Spectre X Simulator、Spectre Accelerated Parallel Simulator (APS)、Spectre eXtensive Partitioning Simulator (XPS) 和 Spectre RF Option，这些产品在管理工艺角仿真、统计分析、设计中心化和电路优化上均做了改进。最新的 Virtuoso ADE Suite 架构能够在现代计算集群或公有云/私有云中并行运行多达数千个仿真点，从而帮助用户优化设计。 Virtuoso Layout Suite 包含多项创新，旨在提供更高效的 IC layout，以提供更好的性能和扩展性；基于网格的结构化器件摆放方法，在布局、布线、填充和 dummy 的插入上具有互动式的助理功能；一个新的器件级自动布线工具，旨在解决先进制程节点上的挑战；在 TSMC 先进制程节点上跨节点移植定制设计和 layout，具有增强的模拟迁移和 layout 重用功能；集成的寄生参数提取和 EM-IR 检查；以及结合 Pegasus Verification Solution，进行集成式签核级别的物理验证能力。 |
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