安森美半导体提高高分辨率工业应用的成像性能

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　　推动高能效创新的安森美半导体（ON Semiconductor），提高要求高分辨率图像捕获和最大图像均匀度的工业应用的成像性能。

　　新的2900万像素KAI-29052图像传感器在500纳米（nm）到1050 nm的波长范围内提供比现有的KAI-29050高达两倍的成像灵敏度。这改进的性能尤有利于在近红外（NIR）波长如850 nm工作的应用。

　　这增强的像素设计保留光电二极管之间的电荷隔离，实现灵敏度的增加，而不降低图像清晰度（调制传递函数或MTF）。此外，改进的放大器设计降低了15%的读出噪声，增加器件可提供的线性动态范围至66分贝（dB）。这些改进使KAI-29052成为高分辨率图像捕获的一个新的性能基准。

　　安森美半导体图像传感器部工业方案分部副总裁兼总经理Herb Erhardt说：“工业成像应用如高端安防、机器视觉和空中侦察和制图不断提高的需求要求用于该市场的图像传感器系列不断改进。KAI-29052增强的性能进一步证实安森美半导体持续致力于为这些高要求的市场提供最先进的CCD和CMOS图像传感器。”

　　安森美半导体的KAI-29052采用符合限制使用有害物质指令（RoHS）的CPGA-72封装，具有黑白、拜耳色和Sparse Color配置，并与现有的KAI-29050图像传感器和全系列的5.5微米和7.4微米CCD图像传感器完全引脚兼容，使摄像机制造商能迅速采用新器件。

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