美国放宽刻蚀设备对华出口 65nm放行
发布时间:2010-10-9 18:46
发布者:嵌入式公社
关键词:
出口
在SEMI及会员公司的共同努力下,经过9个月的等待,美国联邦政府正式实施放宽刻蚀设备的出口条件,原来180nm的技术审核指标被正式放宽到了65nm。 来源:SEMI |
在SEMI及会员公司的共同努力下,经过9个月的等待,美国联邦政府正式实施放宽刻蚀设备的出口条件,原来180nm的技术审核指标被正式放宽到了65nm。 来源:SEMI |
是个好消息 |
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