北方微电子：刻蚀设备三到五年达到国际主流水平，五年内上市
发布时间：2014-9-1 11:07
发布者：eechina
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北方微电子计划在未来五年内实现上市，并打造成国家级集成电路装备产业示范基地。 据北方微电子副董事长耿锦启介绍，北方微电子就是为中国的晶元企业服务，提供集成电路刻蚀机、半导体照明刻蚀机、等离子增强化学气相沉积设备等。 耿锦启称，目前国际上代工业进入规模量产的最高水平是28纳米技术，随着今年年初由北方微电子公司自主研发的12英寸28纳米等离子矽刻蚀机全面通过中芯国际生产线全流程工艺验证，并获得客户订单，标志着中国集成电路高端装备国产化取得新的突破。耿锦启表示，接下来公司将在国家产业政策支持下，大力整合系统内外集成电路装备产业资源，同时争取在五年内实现上市，摆脱对政府资金的依赖。 中国芯量产2017年追上外国芯 北方微电子称，到2017年，我国的芯片量产可与国外相当，技术代差还差一代。在2003年时，我国生产集成电路的水平与国外相差了20年，技术代差了五代。 耿锦启介绍，我国集成电路起步晚，生产水平比较落后。北方微电子研发的是提供芯片生产设备的公司，生产芯片一般需要18种机器，400多道工序，北方微电子所研发和生产的是其中的两种关键设备，刻蚀设备和薄膜设备。目前，企业可生产28纳米的芯片，预计2017年时可量产14纳米。 从28纳米到14纳米，意味着芯片的体积更小、重量更轻、集成度更高，功能也更强。同时，因为设备单位面积生产的芯片多了，成本也会降低。据介绍，目前比较先进的电脑设备一般使用的是20纳米芯片，大众使用的手机普遍为40纳米至28纳米。不过，芯片的体积越小、速度越快，耗电量也就越大。企业的工作人员介绍，未来两三年，手机将普遍使用28纳米芯片，而耗电量问题也一定会逐步得到解决。 耿锦启介绍，中国和国外刻蚀设备的差距有20年，在2003年以前国内在这方面还是空白的。去年，这个差距已经缩短至3年。预计未来3到5年，北方微电子的刻蚀设备水平就能实现与国际主流技术同步发展。北方微电子也将在五年内实现上市，并打造成国家级集成电路装备产业示范基地。 来源：北京晨报/京华时报 |
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