Cadence和GLOBALFOUNDRIES合作改进20及14纳米节点DFM签收
发布时间：2013-5-13 10:28
发布者：eechina
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Cadence模式分类和模式匹配解决方案使客户先进节点设计的可制造性设计流程加快四倍 Cadence设计系统公司近日宣布，GLOBALFOUNDRIES已携手Cadence为其20和14纳米制程提供模式分类数据。GLOBALFOUNDRIES之所以采用Cadence模式分类和模式匹配解决方案，是因为它们可以使可制造性设计（DFM）加快四倍，这对提高客户硅片成品率和可预测性非常关键。 “我们已集成了Cadence模式分类技术，根据模式相似性将成品率不利因素分成若干模式组，包括不精确模式，从而提高了DRC+这一基于模式匹配的光刻签收流程的效率。”GLOBALFOUNDRIES DFM合伙人兼高级总监Luigi Capodieci表示。“创新的DRC+签收流程已成功应用于多款32和28纳米量产IC设计，现在，我们把它用在目前最先进的制程尺寸上。” Cadence模式分类技术让GLOBALFOUNDRIES能将几十万个成品率不利因素、制程热点、及硅片故障归类为便于使用的模式库。Cadence模式搜索和匹配分析内嵌于Cadence光刻物理分析器、物理验证系统、统一的Virtuoso定制/模拟及Encounter数字实现系统解决方案。这为GLOBALFOUNDRIES的客户提供了灵活性，使其能够利用Encounter与Virtuoso中的设计中签收模式匹配及自动修复，建立与全芯片签收流程百分之百的对应关系，并且已成功应用于数款先进节点量产芯片。 对使用Cadence设计工具的GLOBALFOUNDRIES客户来说，这一经过硅片验证的DFM流程易于使用，并能和Cadence的定制、数字、及全芯片签收流程无缝整合。将基于模式匹配的DRC+集成到Virtuoso版图套件中，实现了强大的、设计期正确的方法，并实现了不良模式的精细化避免和自动修复。Encounter数字实现系统已经能够精确并快速地找出并修复100%的DRC+违例，而不会引入额外的DRC或DRC+违例，并已成功应用于数款28纳米的设计。 “DFM在芯片开发和制造之间充当着越来越重要的纽带，并能在硅片成品率和可预测性方面起重大作用。”Cadence芯片实现集团高级副总裁徐季平表示。“Cadence模式分类技术帮助GLOBALFOUNDRIES客户设定并达到很高的成品率期望，确保他们从复杂设计中获得尽可能高的回报。GLOBALFOUNDRIES承诺在20、14纳米及后续制程节点使用我们的技术，我们对此表示感谢。” |
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