Reticle在Wafer fab中的角色
  Photolithography（简称PHOTO，光刻），是半导体Wafer fab中最为核心技术的生产工序段。
  Reticle，也称为photo mask（光罩），则是PHOTO工序必不可缺少的关键工具。Reticle的自身完好性，对wafer线路光刻的精准性起着决定性的作用。

图1. Reticle在wafer PHOTO中的作用图示

图2. 用于wafer fab的Reticle
Reticle的静电敏感性
  由于wafer制程的精细程度持续提高，reticle对静电的敏感型也持续上升。相关业内的实践经验分析与相关研究表明，用于180nm制程的reticle已经表现出不可忽视的静电敏感特性。

图3.Reticle chrome线路遭受多次ESD的损坏症状（光学显微镜）
Reticle静电损坏对wafer fab的价值
  Reticle受到静电的影响，尤其是发生chrome pattern CD（Critical Dimension，关键尺寸）的偏移(较强的ESD)，可能直接导致PHOTO后的wafer报废。